(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111677826.8 (22)申请日 2021.12.31 (71)申请人 全芯智造技 术有限公司 地址 230088 安徽省合肥市高新区创新大 道2800号创新产业园二期J2C 栋13楼 (72)发明人 不公告发明人 　 (74)专利代理 机构 北京集佳知识产权代理有限 公司 11227 代理人 武振华　骆苏华 (51)Int.Cl. G06Q 10/04(2012.01) G06F 30/392(2020.01) (54)发明名称 多层掩膜版之间套刻结果的预测方法及装 置、 终端 (57)摘要 一种多层掩膜版之间套刻结果的预测方法 及装置、 终端， 所述方法包括： 选择套刻图形的一 个或多个位置参数， 针对每个位置参数， 自第一 层掩膜版起， 对多层掩膜版中各张掩膜版的套刻 图形的位置参数值进行多轮预测， 并针对每轮预 测结果， 确定不同的掩膜版之间的套刻图形的位 置参数差值； 针对每张掩膜版， 根据多轮预测后 得到的套刻图形的位置参数差值， 确定预测套刻 规格。 本发明可以提高效率， 降低成本 。 权利要求书2页 说明书11页 附图3页 CN 114386687 A 2022.04.22 CN 114386687 A 1.一种多层掩膜版之间套刻结果的预测方法， 其特 征在于， 包括： 选择套刻图形的一个或多个位置参数， 针对每个位置参数， 自第一层掩膜版起， 对多层 掩膜版中各张掩膜版 的套刻图形 的位置参数值进行多轮预测， 并针对每轮预测结果， 确定 不同的掩膜版之间的套刻图形的位置参数差值； 针对每张掩膜版， 根据多轮预测后得到的套刻图形的位置参数差值， 确定预测套刻规 格。 2.根据权利要求1所述的套刻结果的预测方法， 其特征在于， 自第一层掩膜版起， 对多 层掩膜版中各张掩膜版的套刻图形的位置参数值进行多轮预测包括： 在每轮预测中， 采用所述第一层掩膜版的套刻图形的位置参数值为中心点， 采用第二 层各张掩模版各自对准第一层掩膜版 的预设的基准套刻规格形成第二层各张掩模版 的位 置正态分布曲线， 并在所述第二层各张掩模版的位置正态分布曲线中随机选点分别作为第 二层掩膜版中各张掩膜版的套刻图形的位置参数值； 根据套刻对准关系， 依次采用第i层掩膜版中被其他掩模版对准的各张掩膜版的套刻 图形的位置参数值的平均值作为中心点， 采用第i层掩膜版被其他掩模版对准的预设的基 准套刻规格形成对准第i层 掩模版的其他掩模版的位置正态分布曲线， 并在所述对准第i层 掩模版的其他掩模版位置正态分布曲线中随机选点分别作为其他掩膜版中各张掩膜版 的 套刻图形的位置参数值， 直至确定第I层掩膜版中各张掩膜版的套刻图形的位置参数值； 其中， i为正整数， I 为正整数， 且2≤i≤I。 3.根据权利要求2所述的套刻结果的预测方法， 其特征在于， 所述基准套刻规格为基于 标准差确定的预设参数； 其中， 所述第二层各张掩模版的位置正态分布曲线是基于高斯函数、 采用第二层各张 掩模版各自对准第一层掩膜版的所述预设参数 形成的； 所述对准第 i层掩模版的其他掩模版的位置正态分布曲线是基于高斯函数、 采用第i层 掩膜版被其 他掩模版对准的所述预设参数 形成的。 4.根据权利要求1所述的套刻结果的预测方法， 其特征在于， 所述套刻图形的一个或多 个位置参数选自以下一项或多 项： 所述套刻图形的预设定位 点在水平方向的坐标向量； 所述套刻图形的预设定位 点在竖直方向的坐标向量。 5.根据权利要求1所述的套刻结果的预测方法， 其特征在于， 确定不同层掩膜版之间的 套刻图形的位置参数差值包括： 确定每相邻 两层掩膜版之间的套刻图形的位置参数差值和/或同一层掩膜版包含的各 张掩膜版之间的套刻图形的位置参数差值； 其中， 每层掩膜版与前一层掩膜版具有直接对准的套刻关系， 每层掩膜版中的各张掩 膜版之间具有非直接对准的套刻关系。 6.根据权利要求5所述的套刻结果的预测方法， 其特征在于， 确定每相邻 两层掩膜版之 间的套刻图形的位置参数差值包括： 如果相邻两层掩膜版中较低层掩膜版和/或较高层掩膜版包 含多张掩膜版； 在相邻两层掩膜版中较低层掩膜版和较高层掩膜版包含多 张掩膜版时， 逐一对应确定 各张较高层掩膜版与各张较低层掩膜版之间的套刻图形的位置参数差值；权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114386687 A 2或； 在较高层掩膜版包含多 张掩膜版时， 逐一对应确定各张较 高层掩膜版与较低层掩膜版 之间的套刻图形的位置参数差值； 或； 在较低层掩膜版包含多 张掩膜版时， 逐一对应确定较高层掩膜版与 各张较低层掩膜版 之间的套刻图形的位置参数差值。 7.根据权利要求1所述的套刻结果的预测方法， 其特征在于， 针对每张掩膜版， 根据多 轮预测后得到的套刻图形的位置参数差值， 确定预测套刻规格包括： 确定相邻两层掩膜版在每轮预测中的位置参数差值， 并计算预设参数， 以作为所述相 邻两层掩膜版之间的预测套刻规格； 其中， 所述预设参数 是基于标准差确定的。 8.根据权利要求1所述的套刻结果的预测方法， 其特征在于， 针对每张掩膜版， 根据多 轮预测后得到的套刻图形的位置参数差值， 确定预测套刻规格包括： 确定在每轮预测中同一层掩膜版包含的各张掩膜版之间的位置参数差值， 并计算预设 参数， 以作为每张掩膜版的预测套刻规格； 其中， 所述预设参数 是基于标准差确定的。 9.根据权利要求1所述的套刻结果的预测方法， 其特 征在于， 还 包括： 针对每个位置参数， 对各层掩膜版的所述预测套刻规格与预设的基准套刻规格进行比 较。 10.根据权利要求9所述的套刻结果的预测方法， 其特征在于， 针对每个位置参数， 对各 层掩膜版的所述预测套刻规格与预设的基准套刻规格进行比较包括： 针对相邻 两层掩膜版的每个位置参数， 如果所述预测套刻规格大于预设的基准套刻规 格， 则判断为存在晶圆报 废风险， 和/或， 发出警示信息 。 11.根据权利要求9所述的套刻结果的预测方法， 其特征在于， 针对每个位置参数， 对各 层掩膜版的所述预测套刻规格与预设的基准套刻规格进行比较包括： 针对同一层掩膜版包含的各张掩膜版的每个位置参数， 如果所述预测套刻规格大于预 设的基准套刻规格， 则发出警示信息 。 12.一种多层掩膜版之间套刻结果的预测装置， 其特 征在于， 包括： 差值确定模块， 选择套刻图形的一个或多个位置参数， 针对每个位置参数， 自第 一层掩 膜版起， 对多层掩膜版中各张掩膜版的套刻图形 的位置参数值进行多轮预测， 并针对每轮 预测结果， 确定不同的掩膜版之间的套刻图形的位置参数差值； 预测模块， 用于针对每张掩膜版， 根据多轮预测后得到的套刻图形的位置参数差值， 确 定预测套刻规格。 13.一种计算机可读存储介质， 其上存储有计算机程序， 其特征在于， 所述计算机程序 被处理器运行时执行权利要求 1至11任一项所述多层 掩膜版之间套刻结果的预测方法的步 骤。 14.一种终端， 包括存储器和处理器， 所述存储器上存储有能够在所述处理器上运行的 计算机程序， 其特征在于， 所述处理器运行所述计算机程序时执行权利要求 1至11任一项 所 述多层掩膜版之间套刻结果的预测方法的步骤。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114386687 A 3